[서울와이어 송은정 기자] 삼성전자는 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산시설 확충에 133조원을 투자한다.
전문인력 1만5000명도 대폭 채용,메모리 반도체뿐만 아니라 시스템 반도체를 비롯한 비(非)메모리 사업에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 청사진을 제시했다.
삼성전자는 24일 발표한 '반도체 비전 2030'에서 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 오는 2030년까지 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 각각 투자하기로 했다고 밝혔다.
대규모 R&D 투자를 통해 국내 시스템 반도체 연구 인력 양성에 기여하는 동시에 시설 확충을 통해 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 전반의 발전에 기여한다는 것이다.
이와 관련 향후 경기도 화성캠퍼스의 신규 EUV(극자외선) 생산라인을 활용해 생산량을 늘리는 한편 신규 라인 투자도 계속 진행하기로 했다.
이는 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 목표를 달성하기 위한 것이다.
아울러 국내 중소 반도체 업체들과의 상생 협력을 통해 산업 생태계를 강화함으로써 '신성장동력 발굴'과 '동반성장'을 동시에 추진한다는 방침이다.
국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 제품 개발 기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 설계 관련 지식재산권(IP)을 지원할 예정이다.
또 효과적인 제품 개발을 위해 자체 개발한 설계 및 불량 분석 툴과 소프트웨어 등도 지원하기로 했다. 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해 중소 팹리스 업체의 소량 제품 생산을 지원한다.
이들 업체의 개발 활동에 필수적인 '멀티 프로젝트 웨이퍼' 프로그램도 공정당 연 2∼3회로 확대 운영할 계획이다.
이밖에 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 공조 생태계의 기반을 구축할 것이라고 밝혔다.