이재용, 평택서 바이든·윤석열에게 무엇을 자랑할까

[서울와이어 정현호 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 20일 평택 반도체공장에서 한미 두 정상을 직접 영접한다. 이 부회장은 생산라인 곳곳을 돌며 차세대 반도체 기술을 소개할 것으로 보인다.

재계에 따르면 이 부회장은 이날 예정된 경영권 승계 의혹 재판에 출석하지 않고 조 바이든 미국 대통령과 윤석열 대통령의 평택공장 방문에 동행한다. 서울중앙지방법원은 재판을 이 부회장이 불출석한 상태에서 진행하기로 했다.

미국 대통령이 국내 반도체 생산현장을 찾는 것은 최초다. 바이든 대통령은 방한 첫 일정으로 평택공장 방문을 선택했고, 삼성전자를 반도체 공급망 재편 과정에 핵심파트너로 여기는 모습이다.

이 부회장은 이와 관련 방문을 대비해 전날 평택을 찾아 사전 리허설을 마친 상태다. 한미 정상 모두 반도체산업에 관심이 크다는 점에서 이를 겨냥해 최첨단 메모리와 시스템반도체(파운드리) 생산시설을 모두 갖춘 강점을 부각할 것으로 예상된다.

실제 평택공장은 세계 최대 규모의 반도체 생산기지로 총 부지 면적이 289만㎡(87만5000평)에 달한다. 생산라인 중 P3는 클린룸 규모만 축구장 면적 25개 크기다. 현재는 P1과 P2라인이 가동 중이며 P3는 마감 공사가 한창이다.

또한 이 부회장이 차세대 반도체 공정을 선보일 가능성도 높다. 업계는 양산을 앞둔 GAA(Gate-All-Around·게이트올어라운드) 기반 세계 최초 3나노미터(㎚·10억분의 1m)반도체 시제품이 공개될 것으로 전망했다.

GAA는 기존 핀펫(FinFET) 기술 대비 칩 면적을 줄이고 소비 전력을 감소시켜 성능을 높인 기술이다. 삼성전자는 올해 상반기 중 파운드리(반도체 위탁생산) 경쟁자인 대만의 TSMC보다 먼저 해당 기술을 적용한 3나노 1세대 제품 양산에 나설 예정이다.

5나노·3나노 등은 반도체 칩의 회로 선폭 규격이다. 회로의 선폭이 가늘수록 웨이퍼에 많은 소자를 집적할 수 있어 제품 성능이 향상된다. 전 세계에서 5나노 공정을 할 수 있는 곳은 TSMC와 삼성전자뿐으로 알려졌다. 

한편 바이든 대통령과 함께 삼성전자의 주요 고객사 중 하나인 퀼컴의 크리스티아누 아몬 최고경영자(CEO)도 현장을 찾는다. 이 부회장은 이들에게 앞선 기술력을 전면에 내세울 공산이 크다. 이를 통해 기술과 제품 홍보 효과 등이 기대되기 때문이다.

업계 관계자는 “전 세계 이목이 쏠리는 만큼 이 부회장이 직접 안내를 맡아 생산시설과 제품 등을 소개할 경우 홍보 효과는 자연스럽게 따라온다”며 “특히 두 정상의 방문을 계기로 앞으로 이 부회장과 삼성전자가 한미 양국에 반도체사업 관련 가교역할을 수행할 것으로 보인다”고 말했다.