세메스 전 직원 중국에 기술 도면 유출
초임계 반도체 세정기술, 피해액 수조원

삼성전자 자회사인 세메스에서 반도체 세정 장비 기술을 유출한 일당이 구속 기소됐다. 사진=서울와이어 DB
삼성전자 자회사인 세메스에서 반도체 세정 장비 기술을 유출한 일당이 구속 기소됐다. 사진=서울와이어 DB

[서울와이어 한동현 기자] 삼성전자 자회사 세메스에서 국가 핵심기술로 분류된 반도체 세정 장비 기술이 유출됐다.

16일 수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부(부장 박진성)는 세메스 전 직원 A씨, 전 연구원 B씨, 기술유출 브로커 C씨 등을 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 구속 기소했다. 

검찰은 A씨가 세메스에서 세계 최초로 개발양산에 성공한 ‘초임계 반도체 세정 장비’ 챔버부 도면을 C씨와 공모해 중국에 유출했다고 밝혔다. 해당 장비는 세메스를 제외하면 일본 기업 한 곳만 구현이 가능한 기술이다. 

A씨는 B씨와 함께 세메스의 인산 세정 장비 기술자료를 누설한 혐의도 받는다. 이 기술은 세메스가 세계에서 두 번째로 개발에 성공했다.

검찰은 A씨의 회사 자금 횡령 정황도 포착했다. A씨는 2019년 직접 회사를 설립하고 같은 해 7월부터 2022년 10월까지 회사 자금 총 27억여원을 횡령한 혐의를 받는다.

검찰은 이들 일당이 2019년 12월부터 2022년 7월까지 총 20대의 세정장비를 수출해 약 1193억원가량의 이득을 얻은 것으로 파악했다.

반대로 삼성전자는 기술 유출로 투자금 이상의 손해를 입게 됐다. 검찰에 따르면 세메스는 초임계 기술개발에 약 350억원을 투입했고 그 이상의 피해를 봤다고 판단했다. 

검찰은 삼성전자 차원에서는 연간 400억원의 손해가 발생하고 국내 반도체산업 전반으로 보면 수조원의 피해가 생길 것으로 추산했다.

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